Окислительно-восстановительные процессы в растворе альбумина под действием УФ-излучения и излучения плазмы искрового разряда

Излучением плазмы искрового электрического разряда на воздухе (ИР) и ртутной УФ-лампы низкого давления (УФ) обрабатывали 5% водный раствор альбумина и оценивали концентрацию –SH-групп. В необработанном растворе на 1 молекулу альбумина приходится в среднем около 0.2 групп –SH. При обработке альбумина ИР в течение 15 мин концентрация –SH-групп возрастает в 2 раза и далее не меняется. После обработки УФ-излучением концентрация –SH-групп монотонно растет и за 30 мин увеличивается в 7 раз. Увеличение концентрации –SH-групп связано с восстановлением дисульфидных связей. Восстановительными свойствами при ИР могут обладать продукты распада пероксиазотистой кислоты.