Ca（1-1.5x）WO4：Eux发光薄膜的射频溅射制备技术研究

以Ca0.64WO4：Eu0.24陶瓷为靶材,采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca1-1.5xWO4：Eux薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca1-1.5xWO4：Eux薄膜的红光（616 nm）发光强度的影响;并利用荧光光谱仪和X射线光电子能谱（XPS）仪研究了薄膜的发光性能和成分。极差分析说明,溅射气压、时间和功率都会影响薄膜的发光强度,溅射时间的影响尤为重要。为提高发光强度,溅射气压宜控制在0.2 Pa左右,溅射时间在140 min。成分分析表明,薄膜中钙元素含量显著低于靶材中的含量,但铕元素含量显著偏高。研究还表明,靶材中Ca、W、O和Eu元素的溅射产额比为1∶1.79∶1.84∶2.28。XPS分析和光致发光谱都说明,薄膜中的Eu元素同时存在＋3和＋2价。