Printable medium for etching silicon dioxide and silicon nitride

Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues druckfahiges Atzmedium mit nichtnewtonschem Fliesverhalten zum Atzen von Oberflachen in der Herstellung von Solarzellen sowie dessen Verwendung. Insbesondere handelt es sich um entsprechende partikelhaltige Zusammensetzungen, durch die sehr selektiv feinste Strukturen geatzt werden konnen, ohne angrenzende Flachen zu beschadigen oder anzugreifen.