黄瓜叶面积主效QTL小叶2基因（ll2）的遗传定位

叶片面积影响光合作用效率，是农作物产量的重要构成性状之一。野生黄瓜（Cucumis sativus var. hardwickii）的叶片较小，经过人工驯化后的栽培黄瓜（Cucumis sativus var. sativus）的叶片面积扩大了2~3倍。前人研究已经将控制黄瓜叶面积的主效基因之一ll （little leaf） 定位在第6号染色体上。本研究以黄瓜小叶品系XF-24（P1）、大叶品系DF-32（P2）杂交产生的205个单株的F2群体为研究材料，用SAS软件对成熟期调查的各单株相同节位的叶面积进行正态性检验，结果服从正态分布，符合数量性状的遗传特征。为了有效地加快研究进程，在双亲测序情况下，采用插入缺失位点（insertion and deletion,InDel）标记进行基因定位。研究结合双亲全基因组测序数据，生物信息学分析得出双亲序列之间的InDel位点，用Primer Premier 5.0软件在所有染色体上均匀设计88对InDel标记引物，扩增采用分离群体分组混合分析法（bulked segregant analysis, BSA）组建大叶、小叶基因池，池间有多态的引物再进一步扩增F2群体DNA，筛选到7个与黄瓜叶面积基因ll2连锁的分子标记，位于黄瓜第7号染色体上，分别是InDel-1、InDel-2、InDel-3、InDel-4、InDel-5、InDel-6、InDel-7。建立遗传连锁图谱并进行区间作图寻找QTL位点，结果显示，遗传连锁图谱包含以上7个InDel标记，连锁区间为22.1 cM，包括1个控制黄瓜叶片大小的主效QTL位点ll2 （little leaf 2），位于标记InDel-2与InDel-4之间，这两个标记之间物理距离为1.24 Mb。与前人的研究结果相比，定位区间更小且是7号染色体上首次发现的黄瓜叶面积QTL位点。截止目前，在黄瓜6号、7号染色体共发现了2个黄瓜叶面积主效QTL位点，分别是ll和ll2，表明黄瓜叶面积遗传机制复杂。叶面积主效QTL ll2的遗传定位，对于控制黄瓜叶片面积的遗传机制和分子机理研究以及分子标记�