반도체 폐가스 CF4의 고온 분해 특성 연구 (II)

산업혁명 이후 급증하고 있는 온실가스의 대기 중 농도로 인한 지구온난화는 홍수, 가뭄, 사 막화, 빙하의 감소 및 해수면의 상승 등의 기상이변과 그로 인한 막대한 사회적 손실을 초래하 고 있으며, 우리나라 역시 최근 급격한 산업발달과 더불어 온실가스의 배출이 증가하고 있다. 국가기간산업인 반도체 산업에서 사용되는 CF4, C2F6, C3F8, C4F8, CHF3, SF6, NF3 등의 과불화 합물(Perfluorocompound, PFC) 가스는 대기 중 체류기간이 수백에서 수만 년으로 상당히 길고, 지구 온난화 지수(Global Warming Potential, GWP)가 이산화탄소의 수천에서 수만 배에 이르기 때문에, 지구 환경을 보호하면서 지속 가능한 발전을 하기 위해서는 이에 대한 대책을 마련해 야 한다. 현재 반도체 산업의 성장과 함께 PFC 가스의 배출량도 증가하고 있으며, 국제적 협약을 수행 하기 위해서는 PFC 가스의 대량 분해 기술이 필요하다. 이에 본 연구에서는 반도체 가스(CF4) 의 분해를 위하여 효율이 우수한 Plasma torch 설계 기술과 이를 이용한 CF4의 고온분해 특성 을 연구하는데 목적이 있다. 본 연구에서는 CF4/H2O ratio 변환에 따른 토치의 전력량과 CF4의 분해율 변화를 조사하였으 며, H2O(l)/CF4=0.6과 10kW의 조건에서 CF4의 분해율은 최대 95%로 나타났다.