Couches de garnissage, a caracteristiques uniformes, destinees a une metallisation de damasquinage

La presente invention concerne un procede et des structures destines a un garnissage, a caracteristiques uniformes, de structures de double damasquinage dans des circuits integres. Des gorges (60) et des trous de contact (62) sont formes (100) dans des couches isolantes (60, 56). Les gorges (60) et les trous (62) sont exposes a des chimies alternees afin de former des monocouches de materiau de garnissage recherche (150). A titre d'exemple, des flux de procede sont composes de l'ecoulement d'un support constant dans lequel on injecte alternativement des impulsions gazeuses d'halogenure metallique (104) et d'ammoniac (108). Les couches metalliques terminees par auto-limitation sont ainsi mises a reagir avec de l'azote. Une couverture par etapes, presque parfaite, permet d'obtenir une epaisseur minimale pour une fonction de barriere de diffusion, ce qui maximise le volume restant pour un remplissage metallique subsequent (160) pour toutes dimensions donnees de gorge ou de trou d'interconnexion.