Procédé et appareil permettant le dépôt de minces couches nanostructurées dont la morphologie et la nanostructure sont contrôlées

La presente invention concerne un procede de production, par un procede plasma, de minces couches nanostructurees, en particulier de couches appartenant a la categorie des couches hierarchiquement organisees, ainsi qu'un appareil (30 ; 40) permettant la mise en œuvre dudit procede.