Dérivé d'ester de l'acide acrylique, composé polymère et composition de résine photosensible

L'invention porte sur une composition de resine photosensible qui contient un compose polymere qui contient, comme motif constitutif, un derive d'ester de l'acide methacrylique specifique. La composition de resine photosensible permet de former un motif de resine photosensible qui a une LWR amelioree et une resolution elevee. Le derive d'ester de l'acide acrylique est represente par la formule generale (1). (Dans la formule, R 1 represente un atome d'hydrogene ou un groupe methyle ; A represente une fraction representee par la formule generale (A-1) ou (A-2) ; R 2 et R 3 representent chacun independamment un groupe alkyle ayant 1-6 atomes de carbone ou un groupe hydrocarbone cyclique ayant 3-6 atomes de carbone ; Z represente CH 2 ou -O- ; et n represente 0 ou 1. A cet egard, il n'y a pas de cas dans lequel R 2 represente un groupe methyle, Z represente CH 2 et N represente 1 dans la formule generale (A-1).)