Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2)

Se investigo el efecto de la temperatura de deposicion en los parametros estructurales y de transicion de la fase metal–aislante en peliculas delgadas de VO2, producidas mediante la tecnica de Erosion Ionica en atmosfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distintas temperaturas sobre substratos de SiO2/Si (100). La caracterizacion estructural por difraccion de rayos X (XRD) mostro la presencia de la fase M1 del VO2. Los parametros de red y el volumen de la celda unitaria cambian levemente con el aumento de la temperatura de deposicion. La caracterizacion electrica de la resistencia como funcion de la temperatura, por el metodo de cuatro puntas, muestra transicion de fase reversible, con histeresis termica en todas las muestras. Conforme aumenta la temperatura de deposicion, se observo un incremento en la temperatura de transicion (TMIT), entre 67 °C y 73 °C, para el ciclo de calentamiento, manifestandose ademas, una disminucion en la variacion de la resistencia electrica durante la transicion, afectando la forma y tamano del lazo de histeresis. Los resultados experimentales demuestran que las peliculas delgadas de VO2 son policristalinas y que la temperatura de deposicion afecta los parametros estructurales y de transicion metal–aislante, explicando la aparicion de estres en el material depositado.