Substrat de silicium possédant une surface texturée et procédé de production associé

La presente invention concerne un nouveau substrat de silicium qui possede une surface texturee en gravant a sec la surface d'un substrat de silicium (111), qui presente une orientation, et en formant ainsi une texture sur la surface du substrat. La presente invention concerne un substrat de silicium (111), qui presente une orientation, ledit substrat de silicium comportant une surface texturee qui comprend de multiples saillies qui presentent chacune trois faces inclinees et qui presentent des hauteurs de 100 a 8000 nm. Le procede de fabrication d'un substrat de silicium comprend : une etape de preparation d'un substrat de silicium (111), qui presente une orientation ; et une etape de soufflage d'un gaz de gravure sur la surface du substrat de silicium, ledit gaz de gravure contenant un ou plusieurs gaz selectionnes parmi le groupe constitue de ClF 3 , de XeF 2 , de BrF 3 , de BrF 5 et de NF 3 .