リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されるデバイス

(57)【要約】 【課題】 実質的にスループットを低減することなく、 ２つの異なるマスク露光を組み合わせることができるリ ソグラフィ投影装置および方法を提供すること。 【解決手段】 第１の放射線投影ビームを提供するため の第１の放射線システムと、第２の放射線投影ビームを 提供するための第２の放射線システムと、第１のパター ニング手段および第２のパターニング手段を支持するた めの支持構造体とを備えるリソグラフィ投影装置であっ て、第１のパターニング手段が第１のパターンに従って 第１の投影ビームにパターンを付ける働きをし、第２の パターニング手段が第１のパターンに従って第２の投影 ビームにパターンを付ける働きをし、さらに、基板を保 持するための基板テーブルと、第１および第２のパター ン付きビームを組み合わせて、組み合わせたビームを基 板のターゲット部分に投影するための投影システムとを 備えるリソグラフィ投影装置。