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UHV in-situとC_s-corrected HRTEMによる極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長,および微細構造の評価( 結晶評価技術の新展開)
UHV in-situとC_s-corrected HRTEMによる極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長,および微細構造の評価( 結晶評価技術の新展開)
2007
tyou hosi hyou
kawano sinzi
saitou akira
yamazaki jun
tanaka nobuo
Keywords:
Chemistry
Materials science
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