국소 광적응 기능을 가지는 윤곽검출용 32 × 32 방사형 CMOS 시각칩의 설계 및 제조

국소 광적응 기능을 가지는 윤곽검출용 시각칩을 픽셀수 32x32의 방사형 구조로 CMOS 공정기술을 이용하여 설계 및 제조하였다. 생체의 망막은 넓은 범위의 입력 광강도에 대해서 물체의 윤곽을 검출할 수 있다. 본 연구에서는 시세포, 수평세포, 쌍극세포로 이루어진 망막의 윤곽검출 기능을 모델링하여 윤곽검출용 인공시각칩을 설계하였다. 국소 광적응을 위해, 입력 광강도에 따라 수용야의 크기를 국소적으로 바뀌게 하였다. 아울러 단위셀을 방사형으로 배치함으로써 영상데이터의 양을 감소시킴과 동시에 칩의 중심부분으로 갈수록 해상도가 높아지도록 설계하였다. 설계된 칩은 0.6 ㎛ double-poly triple-metal 표준 CMOS 공정기술을 이용하여 제조되었으며. HSPICE 시뮬레이션으로 성능을 최적화 시켰다.