反射防止膜材料、及びこれの製造方法、これを用いた反射防止膜、パターン形成

【課題】 レジストに対してエッチングン選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速く、加えて被加工膜にダメージをあたえることなく除去できる特性を有する反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 【解決手段】 １種類以上の珪素化合物を加水分解及び縮合させて得られる光吸収性基と架橋性基と非架橋性基を有する重合体並びに有機溶剤並びに架橋剤を含む反射防止膜形成用組成物を提供する。 【選択図】 なし