テクスチャ形成面を有するシリコン基板と、それを含む太陽電池、およびその製造方法

本発明は、テクスチャ形成面を有するシリコン基板のテクスチャを微細化することで、太陽電池用のシリコン基板を薄層化することを目的とする。本発明は、５０μｍ以下の厚みを有し、基板面方位（１１１）のシリコン基板であって、テクスチャが形成されたテクスチャ形成面を有するシリコン基板を提供する。このようなシリコン基板は、好ましくは５０μｍ以下の厚みを有し、基板面方位（１１１）のシリコン基板を準備する工程Ａと、前記準備したシリコン基板の基板表面に、フッ素含有ガスを含むエッチングガスを吹き付けて、テクスチャを形成する工程Ｂとを含むプロセスで製造される。