Method of manufacturing pattern and method of manufacturing a semiconductor capacitor using the same

패턴 제조 방법 및 이를 이용한 반도체 커패시터의 제조 방법에서는 물을 포함하는 식각액을 사용한 습식 식각을 수행하여 폭에 비해 높은 높이의 종횡비를 가지면서 서로 인접하게 배치되는 패턴들을 포함하는 반도체 구조물을 형성한다. 그러나, 상기 습식 식각을 수행함에 따라 상기 반도체 구조물의 패턴들 사이에 이물질이 생성된다. 따라서, 가스 상태의 불화 수소를 사용한 건식의 세정을 수행하여 상기 패턴들 사이에 생성된 이물질을 제거한다. 여기서, 상기 반도체 구조물의 예로서는 실린더 타입의 하부 전극을 들 수 있다. 그러므로, 상기 이물질로 인하여 상기 실린더 타입의 하부 전극과 같이 높은 종횡비를 갖는 패턴이 쓰러지는 상황을 충분하게 저지할 수 있다.