Capteur comportant au moins une structure micromecanique et procede de fabrication

L'invention concerne un capteur comportant au moins une structure micromecanique a base de silicium, integree dans une chambre de capteur d'une plaquette de base, et au moins une couverture recouvrant la plaquette de base au niveau de la chambre de capteur. L'invention concerne egalement un procede de fabrication d'un tel capteur. Selon l'invention, la couverture (13) est composee d'une premiere couche (32) (couche de depot) permeable a un agent de gravure et aux produits de reaction, et d'une deuxieme couche impermeable (34) (couche d'etancheification) disposee sur la premiere. Le procede selon l'invention consiste a remplir au moins la chambre de capteur (28) presente dans la plaquette de base (11) apres etablissement de la structure (26), avec un oxyde (30), en particulier un oxyde CVD ou un oxyde poreux, a recouvrir la chambre de capteur (28) d'une premiere couche (32) (couche de depot) permeable a un agent de gravure et aux produits de reaction, ou rendue permeable ulterieurement, en particulier de polysilicium, a retirer l'oxyde (30) et l'agent de gravure de la chambre de capteur (28) au travers de la couche de depot (32), et a appliquer une deuxieme couche (34) (couche d'etancheification) sur la couche de depot (32), en particulier du metal ou un isolant, cette deuxieme couche etancheifiant la chambre de capteur (28) de maniere hermetique.