Système d'irradiation destiné à un dispositif de production générative

L'invention concerne un systeme d'irradiation (3), destine a un dispositif (1) de production generative a laser, qui comprend une premiere source de faisceau (13) d'un premier faisceau laser (13A) et une seconde source de faisceau (15) d'un second faisceau laser (15A), le second faisceau laser (15A) ayant un facteur de qualite superieure a celle du premier faisceau laser (13A). En outre, le systeme d'irradiation (3) comprend une optique de balayage commune (21) destinee a focaliser le premier faisceau laser (13A) et le second faisceau laser (13B) a l'interieur d'une chambre de production (5) du dispositif (1) et un systeme de guidage de faisceau comportant un premier trajet de faisceau (13a') destine a guider le premier faisceau laser (13A) de la premiere source de faisceau (13) a l'optique de balayage (21) et un second trajet de faisceau (15A') destine a guider le second faisceau laser (15A) de la seconde source de faisceau (15) a l'optique de balayage (21), le systeme de guidage de faisceau comprenant un combinateur de faisceaux (19) destine a superposer les trajets de faisceau du premier chemin optique (13A') et du second trajet de faisceau (15A').