Si-N-O薄膜表面微图形的制备及对内皮细胞黏附行为的影响

采用光刻技术、湿法刻蚀在（100）硅片表面制备微米级沟槽图形结构，并运用非平衡磁控溅射（UBMS）设备在图形表面沉积Si-N—O系薄膜，最终得到Si-N-O薄膜表面微图形．运用表面轮廓仪对微图形结构尺寸进行了表征，采用X射线光电子能谱（XPS）对Si—N-O薄膜的成分结构进行了检测，应用静态接触角测量评价了样品表面的亲疏水性，运用体外内皮细胞粘附及Alamarblue实验评价Si—N-O薄膜表面微图形对内皮细胞粘附、取向及增殖等细胞行为的影响．实验结果发现图形样品表面的内皮细胞数量和活性优于平面样品．图形对培养Id的内皮细胞取向有明显的引导作用，细胞多沿与沟槽平行方向生长；3d后多数内皮细胞跨过沟槽区域相互融合，细胞活性仍显著优于平面样品．实验表明样品表面的微图形化可有效促进了内皮细胞在样品表面的附着与增殖生长．