低光照强度下氧化石墨烯-g-C3N4/PVDF膜的光催化降解性能研究

基于π-π非共价掺杂的原理,采用半封闭高温烧结法制备了GO/g-C3N4.结构分析表明,GO与g-C3N4发生了相互作用.考察了GO引入前后g-C3N4在低光照强度下紫外光降解甲基橙的光催化活性.结果表明,掺杂适量的GO能够提高g-C3N4的光催化活性,当烧结温度为500℃、GO掺杂量为0.5wt％,热解温度为500℃时光催化降解率最高,达到39.50％.