Procede de formation d'un revetement de sulfure de molybdene

1996 
Un systeme (10) asymetrique a magnetrons d'electrodeposition ionique par pulverisation comporte un premier magnetron (16) dote d'une premiere cible (18) de sulfure metallique (par exemple, MoS2) et un second magnetron (20) dote d'une seconde cible (22) de metal (par exemple du titane). Afin de recuperer l'eau et les impuretes a base de soufre des surfaces de la chambre de depot, la cible metallique est parcourue par un courant lors de l'operation de nettoyage ionique precedant la formation du revetement. Des atomes metalliques degazent les impuretes et permettent la formation de revetements de meilleure qualite, notamment des revetements de MoS2 a faible coefficient de friction. L'invention concerne egalement un appareil permettant de realiser des revetements multicouches. Les revetements obtenus possedent un faible coefficient de friction, une bonne adherence et une durete elevee.
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