Apparatus and method for exposure and method for pattrning thin layer using the same

본 발명은 비용 및 효율을 향상시킬 수 있는 노광 장치 및 노광 방법과 그 노광 장치를 이용한 박막 패터닝 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노광 장치는 감광성막이 형성된 기판이 안착된 스테이지와; 상기 감광성막을 노광하기 위한 광을 생성하는 다수의 발광 다이오드와; 상기 발광 다이오드에서 생성되는 광을 상기 기판의 두께방향과 나란한 평행광으로 변환시키는 적어도 하나의 평행광 발생부와; 상기 발광 다이오드로부터의 광 중 유효광이 상기 평행광 발생부에 입사되도록 상기 발광 다이오드로부터의 광 중 불용광을 차광하는 차광막을 구비하는 것을 특징으로 한다. 발광 다이오드, 차광막, 평판 표시 소자