원자층 증착용(ald), 화학 기상 증착용(cvd) 전구체 화합물 및 이를 이용한 ald/cvd 증착법

본 발명은 전구체 화합물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition; ALD) 또는 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD)을 통하여 박막 증착에 이용가능한 비발화성(Nonpyrophoric)의 전구체 화합물 및 이를 이용한 ALD/CVD 증착법에 관한 것이다.