Ensemble cible de pulverisation

L'invention concerne un ensemble cible de pulverisation de tantale, perfectionne. Cet ensemble (11) comprend une plaque cible (13) de pulverisation de tantale, ainsi qu'une plaque support (15) d'aluminium, lesquelles sont soudees par diffusion au moyen d'une intercouche de titane (17). Malgre la durete elevee de sa surface et son point de fusion eleve, le titane constitue une intercouche superieure, car il se produit une diffusion facile et reciproque entre le titane et le tantale, et le titane reagit avec l'aluminium pour former un alliage de titane-aluminium. Ainsi, la plaque cible de pulverisation de l'ensemble pulverisation de l'invention est fixee de maniere sure a la plaque support d'aluminium.