Système et procédé de gravure de silicium noir utilisant des couches minces de liquide

La presente invention porte sur des systemes et sur des procedes qui permettent de graver la surface d'un substrat et qui peuvent utiliser une couche mince de liquide pour graver un substrat afin d'obtenir des proprietes antireflet ameliorees. Le substrat peut etre fixe a l'aide d'un porte-piece qui peut positionner le substrat. Un liquide comportant un acide et un oxydant pour gravure peut etre prepare et peut facultativement comprendre un catalyseur metallique. Une quantite de liquide necessaire pour former une couche mince en contact avec la surface du substrat devant etre grave peut etre distribuee. Le liquide peut etre etale en une couche mince en utilisant un plateau dans lequel le substrat est immerge, une plaque qui est placee pres de la surface du substrat a graver ou un dispositif de pulverisation ou d'enduction.