Système d'éclairage pour éclairer un masque dans un appareil d'exposition par projection microlithographique

L'invention porte sur un systeme d'eclairage (28) d'un appareil d'exposition par projection microlithographique (12), le systeme etant configure pour eclairer un masque (16) positionne sur un plan de masque. Le systeme comprend un sous-systeme optique de formation de pupille (58, 64) et des elements d'optique d'eclairage (32, 38) qui eclairent un composant de deviation de faisceau (46). Pour determiner une propriete du composant de deviation de faisceau, une distribution d'intensite dans une surface de pupille de systeme (70) du systeme d'eclairage est determinee. Ensuite, la propriete du composant de deviation de faisceau est determinee, de telle sorte que la distribution d'intensite produite par le sous-systeme de formation de pupille dans la surface de pupille de systeme approche la distribution d'intensite precedemment determinee. Au moins l'une des aberrations suivantes sont prises en compte dans cette determination : (i) une aberration produite par les elements d'optique d'eclairage (32, 38) ; (ii) une aberration produite par le sous-systeme optique de formation de pupille (58, 64) ; (iii) une aberration produite par un element optique (78) agence entre la surface de pupille de systeme et le plan de masque.