磁性層パターンの形成方法、磁気抵抗素子の製造方法、及び磁気記憶媒体の製造方法

2006 
【課題】磁気特性の安定性を向上した磁性層パターンの形成方法、磁気抵抗素子の製造方法、及び磁気記憶媒体の製造方法を提供する。 【解決手段】磁性層12に保護層とレジストマスク13を積層し、レジストマスク13をマスクにして保護層パターン14Pを得た後に、レジストマスク13を水素プラズマPLHに晒して分解除去させた。そして、保護層パターン14Pをハードマスクにして磁性層12のパターンを得た後に、磁性層12のパターンを水素プラズマPLHに晒して、磁性層12のパターンに付着したハロゲン系の活性種を除去した。 【選択図】図10
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