大尺寸硅基体633nm和3.5～4.1μm双波段高反射膜研制

硅由于透光区域较宽，便于光学系统使用而经常应用于中波红外光学系统中。 但是，以其作为基底， 镀制 0°～22.5°入射、633 nm 与 3.5～4.1 μm 双波段的反射膜却具有相当大的难度， 尤其是φ300 mm 等大尺寸硅镜引起的牢固度问题。以红外光学和薄膜技术为背景，介绍了大尺寸硅基体反射膜的特性、制备及测试方法。 由于红外区可选用的薄膜材料较少，兼顾膜层的制备、光谱特性及可靠性满足等方面因素，最终采用氟化镱（ YbF3） 作为低折射率材料。 经过多次实验，采用速率控制、离子辅助等工艺方法，选取合适的基底温度，解决了在大尺寸硅基体上由于膜层过厚以及 YbF3膜层严重应力作用而导致的膜层龟裂问题，最终研制成功符合使用要求，且可靠性和光谱特性皆优的双波段反射薄膜。