Del echelonnable dotee de structures d'etalement du courant perfectionnees

L'invention concerne une DEL dotee de structures d'etalement du courant perfectionnees, qui fournissent une injection de courant accrue dans la couche active (14) de la DEL, ameliorant ainsi sa puissance et son flux lumineux. Lesdites structures d'etalement du courant peuvent etre utilisees dans des DEL plus grandes que les DEL traditionnelles, tout en maintenant l'injection de courant accrue. La presente invention s'applique particulierement aux DEL dotees de substrats isolants (12), mais elle peut egalement reduire les resistances en serie des DEL ayant des substrats conducteurs. Lesdites structures perfectionnees sont constituees de branches conductrices (20a, 20b, 22) formant des chemins conducteurs cooperants, qui assurent l'etalement du courant a partir des contacts (19, 21) jusque dans les branches (20a, 20b, 22) et l'uniformite de l'etalement a travers les couches dopees a l'oppose (15, 16). Le courant s'etale alors vers la couche active (14) pour injecter uniformement a travers cette couche active (14) des electrons et des trous, qui se reconstituent pour emettre de la lumiere.