Composition servant a former un film antireflet pour procede lithographique

L'invention concerne une composition servant a former un film antireflet a utiliser dans un procede lithographique pour la production de dispositifs a semi-conducteurs. Cette composition renferme comme ingredient une resine contenant des unites structurelles derivees d'acide cyanurique et/ou un derive de ces unites. Ces unites structurelles sont de preference representees par la formule (1) et peuvent etre contenues dans la chaine principale et/ou les chaines laterales de cette resine. Ce film antireflet pour lithographie, obtenu a partir de ladite composition, presente une force capacite de diminution des reflexions et n'entraine aucun melange avec une couche de resist, de maniere a produire un excellent motif de resist. Ce film presente une selectivite en gravure a sec superieure a celle du resist.