高能脉冲磁控溅射技术制备VO 2 薄膜研究进展

高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术具有低占空比、低频率、高峰值功率密度、高溅射等离子体密度等特点，能够在高峰值功率下进行薄膜沉积，从而提高薄膜的沉积质量。将高能脉冲磁控溅射技术用于二氧化钒（VO2）薄膜的沉积，能够降低其制备温度，提高致密度。本文介绍了高能脉冲磁控溅射技术的特点，阐述了高能脉冲磁控溅射技术制备VO2热致变色材料的研究现状，最后总结了利用高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜的优势以及存在的问题并对其应用进行展望。