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Procédé de depot chimique metallo-organique en phase vapeur (mocvd) assisté par ultraviolet (uv) et plasma
Procédé de depot chimique metallo-organique en phase vapeur (mocvd) assisté par ultraviolet (uv) et plasma
2004
Venkat Selvamanickam
Hee-Gyoun Lee
Keywords:
Metalorganic vapour phase epitaxy
Radiochemistry
Ultraviolet
Chemistry
Depot
Plasma
Nuclear chemistry
Materials science
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