Injecteur de gaz pour système à faible coût, grand volume pour dépôt de silicium épitaxial

La presente invention porte sur un appareil pour une utilisation dans une chambre de traitement de substrat. Selon certains modes de realisation, un injecteur de gaz pour une utilisation dans une chambre de traitement peut comprendre un premier ensemble d'orifices de gaz configures pour fournir un flux de jet d'un premier gaz de traitement dans la chambre de traitement, et un second ensemble d'orifices de gaz configures pour fournir un flux laminaire d'un second gaz de traitement dans la chambre de traitement, le premier ensemble d'orifices de gaz etant disposes entre au moins deux orifices de gaz du second ensemble d'orifices de gaz.