Appareil de dopage au plasma

La presente invention a trait a un appareil de dopage au plasma qui est equipe d'un appareil d'aspiration de gaz de regulation (3, 32), qui forme un ecoulement de gaz de regulation qui regule l'air a l'exterieur d'un reservoir sous vide (1) de maniere a ce qu'il ne circule pas du cote du substrat, ledit air, au niveau de la section de connexion entre la plaque superieure (7) et le reservoir sous vide, passant par un element d'etancheite (21) qui assure l'etancheite entre la surface d'extremite superieure de la paroi apparente du reservoir sous vide et la peripherie de la plaque superieure, et entrant dans le reservoir sous vide.