リソグラフィ製造法、リソグラフィ投影装置、および製造したデバイス

(57)【要約】 【課題】 回路パターンの線間隔や線巾（クリティカル 寸法）のピッチ異常を改善するリソグラフィ製造法およ び装置の提供。 【解決手段】 リソグラフィ製造法では、第１のリソグ ラフィ投影装置の第１のリソグラフィ伝達関数に関する 第１の情報を得る。この情報は、基準のための第２のリ ソグラフィ投影装置の第２のリソグラフィ伝達関数に関 する第２の情報と比較される。第１の情報と第２の情報 の差が計算される。次に、この差を最小限にするために 必要な第１のリソグラフィ投影装置の機械設定の変更 が、計算され、第１のリソグラフィ投影装置に適用され る。その結果、第１のリソグラフィ投影装置と第２のリ ソグラフィ投影装置の間の、特徴誤差のピッチ依存性の 整合が向上する。