シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜及び半導体装置

(57)【要約】 【課題】 耐熱性を有しつつ、焼成中の揮発を少なく し、被膜の誘電率が低く、かつ室温における保存安定性 に優れたシリカ系被膜形成用塗布液、これを用いるシリ カ系被膜の製造法、この方法により得られるシリカ系被 膜および半導体装置を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表されるモノオルガ ノトリハロシラン化合物３０〜１００モル％と下記一般 式（II）で表されるジオルガノジハロシラン化合物を７ ０〜０モル％反応させ、得られたハロゲン含有ポリシラ ンに下記一般式（III）で表される化合物反応させて得 られ、一般式（IV）で表される基を珪素原子の総数に対 して１〜１００％有するポリシランと有機溶媒を含有し てなるシリカ系被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体 表面上に塗布後、５０〜２５０℃で乾燥し、ついで水蒸 気又は酸素の存在下において３００〜５００℃で焼成す ることを特徴とするシリカ系被膜の製造方法、この方法 により得られるシリカ系被膜及びこの被膜を用いた半導 体装置。 【化１】