Dispositif optique d'éclairage pour microlithographie

La presente invention concerne un dispositif optique d'eclairage pour microlithographie comprenant un ensemble optique destinee a guider la lumiere d'eclairage vers un champ objet (19) devant etre eclaire dans un plan objet. Selon un premier aspect de l'invention, le dispositif optique d'eclairage (26) divise un faisceau de rayons de lumiere d'eclairage (3) en une pluralite de sous-faisceaux de rayons (28 a 30) qui sont attribues a differents angles d'eclairage du champ objet. Le dispositif optique d'eclairage (26) est configuree de maniere qu'au moins certains des sous-faisceaux de rayons (28 a 30) sont superposes dans un plan de superposition (16) espace du plan objet et dont l'image n'est pas formee dans le plan objet dans lequel la superposition se produit. Cette superposition se caracterise en ce que les bords (32) des sous-faisceaux de rayons (28 a 30) superposes coincident au moins en partie. Selon un autre aspect de l'invention, un dispositif de reglage d'intensite de champ (24) comprend une pluralite de diaphragmes individuels adjacents (27) permettant au moins d'attenuer la lumiere d'eclairage (3) lorsqu'ils sont exposes a celle-ci. Lesdits diaphragmes (27) peuvent etre inseres dans un faisceau de rayons de lumiere d'eclairage (3) dans une direction parallele a une direction de deplacement d'objet (y). Tous les diaphragmes individuels (27) du dispositif de reglage d'intensite de champs (24) peuvent etre inseres dans le faisceau de rayons de lumiere d'eclairage (3) d'un seul et meme cote.