Películas delgadas de α-MoO3 preparadas por atomización pirolítica

^les^aEn este trabajo se prepararon peliculas delgadas de trioxido de molibdeno (MoO3) por la tecnica de atomizacion pirolitica. Las peliculas fueron depositadas sobre sustratos de vidrio y obtenidas a partir de una solucion precursora de Heptamolibdato de Amonio Tetrahidratado ((NH3)6Mo7O244H2O) 0.1 M. La temperatura del sustrato se mantuvo constante en 400 °C y se vario el volumen de la solucion precursora. Las muestras se caracterizaron por difraccion de Rayos X (XRD), espectroscopia infrarroja, Microscopia Electronica de Barrido (SEM) y electricamente a traves de medidas de resistividad electrica en funcion de la temperatura. Las muestras crecen con estructura cristalina correspondiente a la fase alfa del MoO3 con direccion preferencial de crecimiento a lo largo de los planos (0k0). Al aumentar el volumen de la solucion precursora la superficie de las muestras se vuelve porosa. La resistividad en estas muestras cambia en un orden de magnitud cuando son expuestas a la atmosfera de CO.^lpt^aNeste trabalho se prepararam filmes finos de trioxido de molibdeno (MoO3) pela tecnica de atomizacao pirolitica. Os filmes foram depositados sob substratos de vidro e obtidos a partir de uma solucao precursora de Heptamolibdato de Amonio Tetrahidratado ((NH3)6Mo7O244H2O) 0.1 M. A temperatura do substrato se manteve constante em 400 °C e mudamos o volume da solucaoprecursora. As mostras se caracterizaram por difracao de Raios X (XRD), espectroscopia infravermelha, microscopia eletronica de varredura (SEM) e eletronicamente atraves de medidas de resistividade eletrica, em funcao da temperatura. As amostras cresceram com estrutura cristalina correspondente a fase alfa do MoO3, com direcao preferencial de crescimento ao longo dos planos (0k0). Ao acrescentar o volume da solucao precursora, a superficie da amostra se torna porosa. A resistividade nestas amostras muda numa ordem de magnitude quando sao expostas a atmosfera de CO.^len^aMoO3 thin films have been deposited on clean glass slides using the spray pyrolysis technique. The samples were grown with different thicknesses by spraying on common glass substrates a solution of (ammoniummolybdatetetrahydrate) ((NH3)6Mo7O244H2O). The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), infrared spectroscopy, scanning electron microscopy (SEM) and electrically through electrical resistivity measurements as a function of temperature. It was found that samples present crystalline structure associated with the alpha phase of MoO3grown with preferential direction of growth along the planes (0k0). As result of increasing the volume of precursor solution sample surface becomes porous. The change in electrical resistance of MoO3 films by exposure to carbon monoxide (CO) at room temperature, makes the films obtained by this technique could be promising in its use in gas sensing devices at room temperature.