Depot de substances sur une surface

L'invention se rapporte a des procedes et a un appareil (10) permettant de deposer un revetement (20) sur un substrat (30). Un tel procede comporte les etapes suivantes: depot d'un precurseur sur le substrat suivant un motif souhaite; depot d'un ligand approprie sur le substrat; et application d'une energie suffisante pour transferer des electrons du ligand vers le precurseur, ce qui entraine la decomposition du precurseur et donc la formation d'un precipite. Selon l'une des realisations preferees, le precurseur comprend un sel metallique, et le precipite comporte un metal. Les sels les plus preferes sont les carboxylates, les halogenures, les nitrates et les pseudo-halogenures. Dans les realisations preferees, le ligand comprend une amine, un amide, une phosphine, un sulfure ou tout autre ligand contenant de l'azote, du phosphore, du soufre ou d'autres atomes donneurs. Selon un autre aspect des realisations preferees, au moins 80 % en poids de la matiere deposee est d'une grande purete. On forme un motif souhaite sans retirer du substrat une quantite importante du precurseur ou du revetement depose.