フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及び化合物の製造方法

【課題】ＥＬ性能、ＬＷＲ性能、ＣＤＵ性能及びトップロス抑制性に優れるフォトレジスト組成物を提供する。 【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。下記式（１）中、Ｒ ２ は、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基である。Ｒ ３ は、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である。［Ａ］重合体は、下記式（２）で表される構造単位（ＩＩ）をさらに有することが好ましい。 【選択図】なし