Interdiffusion et déformations dans des multicouches FCu/Ni et Mo/V : diffarction des rayons X et simulation de la cinétique

Ce travail de these porte sur l'etude de l'interdiffusion et des contraintes dans des systemes metalliques modeles en couplant la diffraction des rayons X connue pour sa tres grande sensibilite aux variations de distances inter-reticulaires et la modelisation. Les systemes modeles choisis sont des multicouches Cu/Ni et Mo/V epitaxiees sur MgO. Dans ces deux systemes le coefficient de diffusion depend fortement de la concentration ce qui doit donner lieu lors de l'interdiffusion a des profils de concentration tres asymetriques. Pour etudier l'evolution des profils de concentration et de distance lors de la cinetique d'interdiffusion, un programme couplant cinetique d'interdiffusion et evolution des spectres de diffraction symetrique coplanaire a ete mis en place avec succes. Il s'appuie sur le modele de Martin (modele d'Ising cinetique dans l'approximation de champ moyen) pour simuler l'interdiffusion et utilise la theorie cinematique pour calculer le diagramme de diffraction. De plus, il integre une relation d'elasticite entre champs de deformation et champs de concentration en tenant compte de la coherence des interfaces. Ce programme a permis d'etablir l'existence d'une forte asymetrie de diffusion dans les systemes Cu/Ni et Mo/V avec des parametres controlant l'asymetrie d'interdiffusion similaires pour les differents echantillons etudies. De plus ces parametres sont tres proches de ceux donnes par la litterature etablies sur des systemes non contraints. Ce constat indique que le fort etat de deformation de ces multicouches n'affecte pas la cinetique d'interdiffusion.