Procédé de co-optimisation de source et de masque de forme libre rapide

La presente invention concerne des appareils et des procedes de lithographie et, plus particulierement, des outils pour l’optimisation des sources et des masques d’eclairage devant etre utilises dans des appareils et des procedes de lithographie. Selon certains aspects, la presente invention accelere significativement la convergence de l’optimisation en permettant un calcul direct du gradient de la fonction de cout. Selon d’autres aspects, la presente invention permet une optimisation simultanee de la source et du masque, ce qui accelere significativement la convergence globale. Selon encore d’autres aspects, la presente invention permet une optimisation de forme libre, sans les contraintes requises par les techniques d’optimisation classiques.