OSSTEM TS III型短种植体在下颌磨牙区的临床应用疗效评价

目的通过对OSSTEM短种植体在磨牙区临床应用3年的临床观察,评估其临床应用价值。方法选取2010年6月-2011年6月行种植修复的76例患者,共植入113颗OSSTEM TSⅢ型（韩国奥齿泰TSⅢ型种植系统）短种植体,全部种植位点位于下颌磨牙区。测量评估C/I比值（冠与种植体长度比值）、种植体颈部近远中牙槽骨高度及临床指征,采用Zarb种植体成功标准和Wheeler种植体存留率标准评价OSSTEM TSⅢ短种植体3年成功率和存留率。结果 75个种植位点采用单冠修复,38个位点采用联冠修复。113颗OSSTEM TSⅢ短种植体负重后经36个月的临床观察,C/I比值平均值为1.25,种植术后即刻、1年、3年种植体近中边缘骨高度分别为（0.55±0.08）mm、（-0.07±1.09）mm、（-0.28±1.18）mm,远中边缘骨高分别为（0.59±1.19）mm、（-0.21±1.13）mm、（-0.28±1.36）mm,OSSTEM TSⅢ短种植体3年存留率100.0%,成功率93.8%。结论在下颌磨牙区植入短种植体进行种植修复可以取得令人满意的临床效果,与常规种植体并无差异。长期效果有待进一步研究。