Procédé de nettoyage et de texturation de surface pour cellules solaires cristallines

L’invention porte sur des procedes de texturation de surface d’un substrat de silicium cristallin. Dans un mode de realisation, le procede comprend la fourniture d’un substrat de silicium cristallin, l’humidification dudit substrat a l’aide d’une solution alcaline incluant un agent mouillant, et la formation d’une surface texturee avec une structure d’une profondeur comprise entre environ 1 µm et environ 10 µm sur le substrat. Dans un autre mode de realisation, un procede permettant de realiser une texture sur un substrat comprend la fourniture d’un substrat de silicium cristallin, le pre-nettoyage du substrat dans une solution aqueuse HF, l’humidification du substrat a l’aide d’une solution aqueuse KOH incluant un compose polyethylene glycol (PEG), et la formation d’une surface texturee avec une structure d’une profondeur comprise entre environ 3 µm et environ 8 µm sur le substrat.