Revetement barriere de diffusion pour composants a base de silicium

L'invention concerne un composant comprenant un substrat a base de silicium et un revetement barriere de diffusion dispose sur ce substrat a base de silicium. Le revetement barriere de diffusion comprend une couche d'isolation disposee directement sur le substrat a base de silicium et au moins une couche barriere a l'oxygene disposee sur la couche d'isolation. La couche barriere a l'oxygene empeche la diffusion de l'oxygene a travers celle-ci et empeche une oxydation excessive du substrat a base de silicium. La ou les couches d'isolation empechent les contaminants et les impuretes de reagir avec la couche barriere a l'oxygene. Un revetement barriere contre l'environnement peut etre dispose sur le revetement barriere de diffusion et un revetement barriere thermique peut etre dispose sur ce revetement barriere contre l'environnement. L'invention concerne egalement des procedes destines a fabriquer un composant comprenant un revetement barriere de diffusion.