Intercalação de lítio em filmes finos de óxido de molibdênio

Neste trabalho foram estudadas as propriedades de filmes finos de oxido de molibdenio depositadas por sputtering reativo, variando-se o fluxo de oxigenio (f) durante a deposicao e mantendo-se os outros parâmetros de deposicao constantes. A microestrutura e a composicao dos filmes foram analisadas por Difracao de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e Espectroscopia de Fotoeletrons. O filme depositado em mais baixo fluxo de O2 foi identificado como MoO2. Com o aumento de f, os filmes evoluiram segundo o esquema: amorfo => (MoO2.8+a-MoO3)=>b-MoO3=> (MoO2.8+b-MoO3). O comportamento das amostras frente a intercalacao eletroquimica foi estudado em meio orgânico, contendo ions Li+, acompanhando-se as variacoes de transmitância (efeito eletroquimico) e as tensoes mecânicas envolvidas no processo de insercao/de-insercao reversivel de ions/eletrons na rede cristalina. Todas as amostras, exceto a de composicao MoO2, sao eletrocromicas. A variacao de tensao mecânica, em media, foi de 108 N m-2, para uma carga intercalada de 20mC/cm2. O filme que apresentou conjuntamente as melhores propriedades opticas e mecânicas tem estrutura b-MoO3