描画装置、描画方法、及び描画プログラム

2004 
描画装置は、図形の描画領域をマトリクス状に分割して得られる複数のピクセルのうち、描画すべき図形に応じたピクセルを生成するラスタライザ(55)と、ラスタライザ(55)によって生成されたピクセルに対して描画処理を行う複数のピクセル処理部(56−0~56−31)と、ピクセル処理部(56−0~56−31)毎に設けられ、対応するピクセル処理部(56−0~56−31)によって描画されたピクセルのデータを保持する複数のメモリLM0~LM31とを具備する。ピクセル処理部(56−0~56−31)は、互いに異なる位置の複数のピクセルに対して描画処理を行い、各々のピクセル処理部によって描画処理される複数のピクセルは、あるピクセルに最近接な6個のピクセルが描画領域内において実質的な正六角形の頂点に位置する関係を有する。
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