INFLUÊNCIA DA INTERCAMADA DE SILÍCIO AMORFO NA TENSÃO TOTAL E NA ADERÊNCIA DE FILMES DE DLC EM SUBSTRATOS DE Ti6Al4V

Neste trabalho, estudou-se a influencia da utilizacao de uma intercamada fina de silicio amorfo na tensao total e na aderencia de filmes de DLC depositados em substratos de Ti6Al4V pela tecnica de rf-PECVD. Na caracterizacao da intercamada de silicio e das interfaces foi utilizada a tecnica de XPS. A microestrutura dos filmes de DLC foi estudada utilizando a espectroscopia de espalhamento Raman. A tensao total dos filmes foi determinada a partir da deflexao do substrato usando a perfilometria e a dureza atraves de um microdurometro. A aderencia dos filmes foi avaliada usando-se a tecnica de riscamento. Os resultados obtidos demonstraram que a utilizacao da intercamada de silicio amorfo permite a deposicao de filmes de DLC em substratos de Ti6Al4V com boa aderencia, baixa tensao compressiva e elevada dureza. Observou-se a presenca de SiC na interface entre o silicio e o filme de DLC. A caracterizacao dos filmes de DLC mostrou que existe uma forte dependencia da microestrutura e das propriedades mecânicas destes filmes com a energia dos ions.