Procédé de formation d'un motif de réserve et composition de résine sensible au rayonnement

La presente invention concerne un procede de formation d'un motif de reserve. Le procede comprend (1) une etape de formation d'un revetement de reserve au moyen d'une composition de resine sensible au rayonnement, (2) une etape d'exposition et (3) une etape de developpement mise en œuvre en utilisant une solution de developpement contenant au moins 80 % en masse de solvant organique. Le procede est caracterise en ce que la composition de resine sensible au rayonnement contient (A) un constituant polymere comprenant un polymere comportant un groupe de dissociation d'acide, et (B) un generateur d'acide sensible au rayonnement. Le constituant polymere (A) presente, dans des polymeres identiques ou differents, des motifs structuraux (I) comportant des groupes d'hydrocarbure (a1) et des motifs structuraux (II) comportant des groupes d'hydrocarbure (a2). Les groupes d'hydrocarbure (a1) sont des groupes a chaines ramifiees en C8 ou moins eventuellement substitues ou des groupes aliphatiques cycliques ou monocycliques eventuellement substitues comportant de trois a huit carbones de cycle. Les groupes d'hydrocarbure (a2) possedent un squelette en adamantane. Le rapport molaire des groupes d'hydrocarbure (a2) aux groupes d'hydrocarbure (a1) est inferieur a 1. Dans le constituant polymere (A), la proportion des motifs structuraux contenant des groupes hydroxyles est inferieure a 5 % en mole.