Solution de traitement organique pour la génération de motif sur film en photorésine amplifiée chimiquement, contenant de solution de traitement organique pour la génération de motif sur film en photorésine amplifiée chimiquement, et procédé de formation de motifs, procédé de fabrication de dispositif électronique, et dispositif électronique l'utilisant

L'invention concerne une solution de traitement organique servant a la generation de motifs sur films en photoresine chimiquement amplifiee qui peut reduire la generation de particules, en particulier quand on utilise une solution de developpement organique dans un procede de formation de motifs negatifs pour realiser un motif tres fin (par exemple nœud de 30 nm ou moins) ; un contenant pour la solution de traitement organique utilisee pour la generation de motifs sur films en photoresine chimiquement amplifiee ; et un procede de generation de motifs, un procede de fabrication de dispositif electronique, et un dispositif electronique l'utilisant. La solution de traitement organique servant a generer des motifs sur films en photoresine chimiquement amplifiee contient 1 ppm ou moins d'une olefine-alkyle ayant un nombre d'atomes de carbone de 22 ou moins, et une concentration en elements metalliques de 5 ppm ou moins pour chaque Na, K, Ca, Fe, Cu, Mg, Mn, Li, Al, Cr, Ni et Zn. Le procede de formation de motifs, le procede de fabrication de dispositif electronique et le dispositif electronique utilisent celui-ci.